28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片,我们可以看到各大品牌的销售情况了：OPPO以3813万台的销量排名第一、vivo以3551万台的销量排名第二位,我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片,你会发现手机的内存似乎并没有出现明显减少的情况,在使用90纳米光刻机的情况下,一方面我们需要不断的减少手机中不必要的数据,第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺,手机为什么清除垃圾之后内存还是不够。

手机为什么清除垃圾之后，内存还是不够

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手机为什么清除垃圾之后内存还是不够？

我们知道现在手机有自己内置的手机管理软件，在很早之前可能会有所谓的安卓优化大师，或者是内存优化大师等等。

我们手机清理之后，手机依然会出现比较卡顿的问题。那么现在的手机基本上出现这种问题的情况相对较少，因为现在的手机有自己的手机管理大师。

一般来说我们清理手机内存之后，你会发现手机的内存似乎并没有出现明显减少的情况，到底是什么原因导致的？

先了解手机的内存是什么。

手机的内存是指存储手机数据的空间，如果对于我们用户来说手机的内存越来越少，说明我们手机存储的数据越来越多，这里包括缓存数据，也包括我们手机本身拍摄的照片或者是下载的音乐视频等等。

我们如何提升手机的内存容量，如何减少手机的内存？

一方面我们需要不断的减少手机中不必要的数据，比如说音乐或者视频等等。

另外一方面也需要不断的清理手机一些APP的缓存，比如说像微信或者是今日头条等等，可能都会有缓存的存在，这时候要及时的去处理和清理。

第3点是我们在使用手机的过程中不要去下载一些不必要的软件，这些软件，很可能会存在一些非常多的内存。

所以，保持良好的使用手机习惯，以及手机本身内存在选择的时候选择更大的内存是很重要的。

国产手机，能够排的上前5的都有哪些品牌

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当然是：华为、OPPO、vivo、荣耀、小米啦

不信的话，你看看今年的第一季度和上半年的出货量。

今年第一季度的销售量

OPPO以1852万台排名第一季度第一；vivo销量1734万台位居第一季度第二；苹果的销量为1680万台，排名第一季度第三；华为的销量1442万台，排名第一季度第四；主要注意的是，华为和荣耀品牌分开了，因为不统计在一起，不然合起来的话就是华为第一了。荣耀销量1400万台，排名第五；小米的销量为1237万台，排名第六。-清理内存

除去了苹果和三星之外，其他都是国产品牌，可见国产的实力。

看看今年上半年的表现

2018年上半年，专注智能手机市场数据调研机构的赛诺，给出了上半年国内智能手机市场的数据报告。我们可以看到各大品牌的销售情况了：

OPPO以3813万台的销量排名第一、vivo以3551万台的销量排名第二位。然后即使智能手机行业的一各苹果了，但是苹果是外国品牌，我们就先不说了。华为排名第四名，销量为3057w台。荣耀作为互联网手机品牌，以2839万台的好成绩位居第五位；这个时候我们还需要看看同为互联网品牌的小米，以2670万台位居第六位。-手机

这是上半年的数据，除了苹果之外，几乎都是国内的品牌了。前五名可以确定是华为、OPPO、vivo、荣耀和小米了。

在科技上，华为和荣耀拥有海思芯片、GPU turbo、强大拍照算法优化能力；

OPPO拥有强大的闪充、潜望式镜头、3D隐藏式的镜头等等，还有强大的线下渠道；

vivo除了有线下渠道还有Hi-Fi音质、伸缩镜头等等黑科技；

小米有澎湃芯片，也有强大的线上销售系统。

90nm光刻机能做什么样的手机

您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司，截止现在（2020/06/13）这家公司最先进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓，都没有经过90纳米的过程，第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11，使用的是130纳米的工艺，第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米工艺的自研A4处理器。-清理内存

高通进入手机芯片制造稍微晚一些，是从65纳米开始的。从第二代S2系列以后才用上45纳米工艺。第一代小米手机M1用的是高通骁龙第三代S3系列的MSM8260处理器。

芯片制造主要看光刻机精度和工艺。按照现在的工艺，用90纳米光刻机经过两次曝光，可以获得45纳米的芯片，三次曝光可以最高达到22纳米的水平，三次曝光良品率过低，一般都控制在28纳米或者32纳米。也就是相当于苹果iPhone5/5S的A6/A7处理器水平，或者华为畅享6/7系列、小米红米4系列。-手机

综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片。这几种芯片完全涵盖智能手机的范围，不会回到大哥大时代！

另外，上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破，将于明年（2021年）正式交付使用！28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片，极限状态下，不考虑成本和良品率的情况下，也可以生产7纳米芯片。-清理内存