光刻机和工艺技术是芯片的核心技术,结论是专利不是我们自主高端光刻机的最大难点光刻机在芯片制造过程中起着至关重要的作用,光刻机的专利重要吗日本在光刻技术和光刻机制造领域起步较早,因此光刻机限制了芯片在中国的研发进程,中国可以造出7nm光刻机吗专利反而不是制约我们造出高端光刻机的关键,虽然这个光刻机还没有完全实现芯片的自主研发,高精度光刻机的技术难点ASML的成功是全球顶尖工艺的汇集和芯片代工企业在生产实践中的不断验证和强化,上海微电子已经成功生产光刻机了么这个领域国内是什么水平明年就能生产28纳米光刻机。

我国的光刻机开发得怎么样了，芯片什么时候有望国产化

有句老话“落后就要挨打”，但是现在我们国家面临着这样的局面：落后就要被封锁。世界科技发展浪潮兴起后，由于基础技术薄弱，我国已经掌握了发达国家的技术，我们还在努力学习。我们一直在努力缩小与西方国家的差距。然而，随着社会发展的加快，我国许多高技术只能采取先引进后研发的策略。然而，在这个时候，我们遇到了来自西方国家的各种困难。甚至它的核心技术也不会对我们开放，芯片技术就是其中之一。

看到中国科技企业的逐步崛起，以美国为首的西方国家立即开始对其施压，华为， 中兴等企业深受影响。

然而，迟早，该来的总会来。也许对美国来说，把我们推向死胡同也是一件好事。我们已经完全失去了我们的幻想。我们认为我们可以用钱购买芯片来生产电子产品。现在看来，只有独立的研究和开发不会被其他人卡住。尽管芯片开发需要很长时间，需要大量人力和财力资源，但只要中国人民下定决心，就没有什么能打败我们。-光刻机能进口了

美国的镇压给我们国家敲响了警钟。国家层面已经开始高度重视核心技术的研发。我国各行各业都在努力工作，必须建立自己的芯片。天上的上帝没有辜负他的期望。现在，来自中国核心的好消息一个接一个地传了出来。我国的芯片有了突破，芯片制造技术有了质的提高。-光刻机能进口了

众所周知，制约国内芯片发展的不是芯片设计，而是芯片制造过程中的技术水平。我们不得不承认，西方发达国家在这方面确实很有成就。在芯片制造过程中，光刻机和工艺技术是芯片的核心技术，而美国恰恰垄断了这一技术。-光刻机能进口了

然而，中国芯片代工巨头中芯国际去年正式投入生产14纳米芯片，而麒麟710 A芯片是中芯国际使用的14纳米技术。然而，14纳米并不代表当前的技术创新。然而，中芯国际公司的负责人强调，7纳米工艺预计将在今天的第四季度投入生产。这是最精彩的部分。让我们拭目以待。-光刻机能进口了

随着制造过程的完成，好消息也从中国国内的光刻机光刻机，传来，在那里芯片被开发出来，也取得了重大突破。在此之前，光刻机在全世界被荷兰人所垄断。然而，由于之前西方国家达成的协议，该技术拒绝向中国出售，因此光刻机限制了芯片在中国的研发进程。但是这一切都不会回来了。-光刻机能进口了

光刻机由安芯半导体公司独立开发，中国，的一家半导体公司已经交付使用。不幸的是，光刻机不是100%国产的。然而，国内生产的程度已经达到90%左右，这可以说是非常显著的。毕竟，我们刚刚实现了从无到有的转变。我相信随着科技的不断进步，中国很快就会有一个完全国内化的光刻机-光刻机能进口了

目前，由福建安芯半导体公司制造的中国第一台光刻机于2020年4月正式移交给海康威视。虽然这个光刻机还没有完全实现芯片的自主研发，但它在中国的芯片制造中仍然发挥着巨大的价值。

与此同时，福建安芯科技并没有停止对光刻机的生产和改造我相信在他们和国内其他企业的共同努力下，光刻机的自主研发指日可待，而中国的科技公司也终于可以摆脱在国外寻找芯片工厂的命运。

我相信，通过在这一领域的大量投资，我们能够迅速摆脱困境，最终在这一领域走在世界前列。

如果asml放开专利，中国可以造出7nm光刻机吗

专利反而不是制约我们造出高端光刻机的关键。

说白了，专利是用公开的手段换取科技控制权，不公开就没有专利权，所以保密性和专利权一般不可兼得，除非公布的技术方案里，故意隐藏一些技术参数或者关键点，但是这样无法完全保护产生专利保护。

而对于光刻机，ASML有很多压箱底的保密技术，不会轻易泄露，而且高端光刻机的制造难度更在于，它是全球顶尖科技工艺的汇集，并且通过顶级芯片代工企业，在生产实践中的不断验证和强化。

光刻机的制造目前被荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国上海微电子四家所把持。我国虽占一席之地，但只限低端设备。

下面试着分析一下专利对光刻机制造的影响。

光刻机的专利重要吗

日本在光刻技术和光刻机制造领域起步较早，所以，日本的专利申请量最多，而且除了在本国大量布局之外，日本也比较重视在美国、韩国、中国台湾和中国大陆的专利布局。日本光刻有先发优势，在中低端光刻机的研发投入了大量精力，也布局了大量相关专利，所以在中低端光刻技术上，实力还是很雄厚的。-光刻机能进口了

但是ASML后来居上，专注研发，且核心技术绝对保密，在专利建设上，也超过了尼康和佳能。近几年关于高端EUV光刻机的专利数量，排名第一的是老牌王者卡尔蔡司（Carl Zeiss），ASML位列第二名，再依次为海力士、三星，它们同时也是ASML的合作伙伴，日本尼康及佳能分别位列第四及第六位。-光刻机能进口了

所以高端EUV光刻机的专利壁垒还是很高的。但需要注意：ASML深藏不漏的核心机密技术，是更具价值的。

高精度光刻机的技术难点

ASML的成功是全球顶尖工艺的汇集和芯片代工企业在生产实践中的不断验证和强化。它集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。-光刻机能进口了

第一难点在于顶级的镜头来自独一无二的蔡司。

现在世界主流的极紫光刻机的紫外光线来说要想达到13.5纳米的水平，那么物镜的数值口径要达到1.35以上，要达到这个口径很难，因为要加工亚纳米精度的大口径的镜片，用到的最大口径的镜片达到了400毫米。目前只有德国的光学公司可以达到，当然，日本尼康通过购买德国的技术也可以达到。-光刻机能进口了

但浸没式光刻物镜异常复杂，涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿，二十余枚镜片的初始结构设计难度极大——不仅要控制物镜波像差，更要全面控制物镜系统的偏振像差。因此，在现阶段国内物镜也无法完全替代进口产品。-光刻机能进口了

第二难点在于13.5nm EUV的极紫光源。

业内巨头台积电及英特尔的7nm工艺使用的是浸入式ArF的光刻设备，但沉浸式光刻在7nm之后的工艺节点，难以再次发展，EUV成为了解决这一问题的关键，目前EUV光刻机光源主要采用的办法是将准分子激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。-光刻机能进口了

ASML也是通过收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer，才获得光源技术的保障。

我国在实验室绕过专利壁垒实现了9nm光刻

2016年底，华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽，双线间距低至约 50nm 的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可以突破国外的专利壁垒，直接达到 EUV 的加工水平。-光刻机能进口了

据说，与动辄几千万美元的主流光刻机乃至一亿美元售价的 EUV 光刻机相比，我国的新技术使得光刻硬件只需要一台飞秒激光器和一台普通连续激光器，成本只是主流光刻机的几分之一。

但一个产品从实验室，走向最后的落地，何其漫长艰难。

结论是专利不是我们自主高端光刻机的最大难点

光刻机在芯片制造过程中起着至关重要的作用，再难也要坚持攻关，为了使我国的半导体产业链不受制于人，我们需要加快光刻机的研制步伐，刻不容缓。我们也看到，国家的科学工作者和企业界在这方面的努力，希望有一天国产光刻机在高端领域实现弯道超车、有所突破。-光刻机能进口了

上海微电子已经成功生产光刻机了么这个领域国内是什么水平

明年就能生产28纳米光刻机。如果顺利生产28纳米光刻机，中国百分之九十的芯片制造都可以自足。

7纳米5纳米只有用在高端手机上，电脑14纳米都算是非常先进，其他行业48纳米制成的芯片都已经是非常先进了。台积电三星中芯国际不代工，华为干脆暂时放下手机业务，转战别的领域。购买国产48纳米光刻机，足以让华为不被卡脖子。-光刻机能进口了

光刻机难不难确实很难，对企业来说是真难，主要成本控制问题。如果成本控制不再考虑中，光刻机难不难，回答是给几年时间完全能弥补上技术的差距。国家一旦调动各方力量，二三年基本上能接近荷兰ASML厂家的水平。-光刻机能进口了