本文目录
- 中国中微造出3nm刻蚀机，与荷兰ASML光刻机还有多大差距
- 国产“冰刻机”取得大进展，能否取代光刻机
- 中科院光刻技术又获新突破，国产芯片距离先进水平还差多远
- 中微7纳米蚀刻机受关注，国产半导体设备困境如何解
- 国产芯片发展到什么水平了
- 国产光刻机进展到什么程度，为何ASML改口了
- 核心已攻，国产EUV光刻机即将来到，ASML还能活多久
- 上海微电子的28nm光刻机现在到底怎么样了
- 中国高端光刻机技术现在如何
- 国产高分辨力光刻机验收合格，是否说明国产CPU的春天到了呢
中国中微造出3nm刻蚀机，与荷兰ASML光刻机还有多大差距
科学的东西太尖端、绕口令似的解释，咱也听不明白，打个比方跟您说吧。
光刻跟蚀刻是两种不同领域里使用的技术，光刻机和蚀刻机就是那不同领域里进行作业的工具，虽然他们进行的是同一个产品作业，但工序不一样。就像做一件衣服，光刻是在设计样式、尺寸并绘制图形，蚀刻是进行分割、裁剪。
一件衣服究竟怎么样，不仅看设计的好不好，线条划没划歪；也要看分割得好不好，剪没剪走形。设计师和裁剪师是服装设计建造不同环节的两个人，他们使用的工具也是不同性质的物品。尺笔是绘图用工具，而剪子是裁剪用工具，谁好谁坏没法比较。设计师和裁剪师谁的技术高，也没法衡量。-国产光刻机最新消息
国产“冰刻机”取得大进展，能否取代光刻机
答案是“肯定无法替代光刻机”啦！
首先，所谓冰刻，只是说用-140℃的冰比现在光刻过程中的光刻胶效果要更好，但也就仅此而已，其他芯片生产中的难题都没有涉及。也就是说，仅仅是在光刻胶方面起到了另辟蹊径的目的，但在其他方面却难度增加了十倍不止，如此好处与劣处互相一抵消，结果是难度变更大了！你说这种事情有商业推广的意义吗？-国产光刻机最新消息
其次，“冰刻”是用电子束来加工芯片，这就相当于是用笔在抄书，用电子束一笔一笔的将设计模板抄写到芯片基材上面；而“光刻”过程则是用光线像拍照片一样，将设计模板一次整版地复制到芯片基材上面。用脚后跟想也知道，拍照片要比拿笔抄写要快多了吧。所以，从生产效率上来说，二者根本没有可比性。-国产光刻机最新消息
最后，现在光刻技术已经基本达到了硅基芯片生产的尺寸极限，而且技术还更成熟，设备也已经统治了市场，各大芯片厂商在光刻过程上面积累的专利技术多如牛毛。此时，有谁会愿意放弃现在这个成熟的技术路线，去走一个投入巨资，也不过最多是达到现在成熟技术路线相同效果的技术？何况，这个新的“冰刻”技术路线最后能不能走通都没人知道。-国产光刻机最新消息
至此，这个“冰刻”技术路线，让几十上百个博士写论文毕业是妥妥的没问题，但拉赞助搞商业化投资，就是痴人说梦了。这会是孵化无数博士的金母鸡，但至少到现在为止，绝对不可能是商业化生产的金母鸡。“冰刻”天然固有的毛病，已经注定了这不可能是芯片制造的一条新的金光大道！大概就是这么一回事吧。-国产光刻机最新消息
中科院光刻技术又获新突破，国产芯片距离先进水平还差多远
国内好像做到7毫米5毫米，向3毫米进入？这已经很快了。大有后来者居上的趋势。也有绕过心片的路径。
为国人点赞！
中微7纳米蚀刻机受关注，国产半导体设备困境如何解
随着《大国重器》热播，很多人才知道，我们在芯片制造上的某一项技术竟然达到了世界前列---7nm蚀刻机。并已被台积电采购使用。
虽然说中微半导体能生产7nm蚀刻机，但并不是说我们就能生产7nm芯片。芯片制造涉及一整套流程，这一整套流程里面都需要相应的设备，除了蚀刻机，还有一个最关键的光刻机。目前最先进的光刻机掌握在荷兰的ASML，此前还有尼康佳能竞争一下，现在尼康佳能也竞争不过。-国产光刻机最新消息
我们自主的光刻机暂时还停留在90纳米上，由上微生产。所以巧妇难为无米之炊，光有先进的蚀刻机也不行。不过在4月份中芯国际花费1.2亿美元向ASML订购了一套极紫外（EUV）光刻设备。预计在2019年初交付。购买EUV设备的意义在于希望缩小与国外领先技术的差距。-国产光刻机最新消息
目前中芯国际最先进的制程是28nm，有供应链在6月披露，中芯国际14纳米FinFET制程已接近完成研发，计划在2019年量产。如果中芯国际14纳米量产顺利，那么离台积电、三星、GF等老牌半导体的7纳米还差足足两个世代。-国产光刻机最新消息
差距虽远，做为国人都希望我国半导体技术撂翻那些半导体巨头。不过现实摆在眼前，饭还是要一口一口吃，各种原因导致的差异也不是一天两天就能追赶而上。也请多给点耐心，路还很长。没有跨步就永远没有追赶的机会。
△中国制造2025，十三五规划纲要和政策目标。
国产芯片发展到什么水平了
中兴和华为先后面临的遭遇，让国人再次意识到芯片的重要性，在这个过程当中，我们看到了仍然存在的差距，也看到了突飞猛进的发展，对此我们不禁要问：国产芯片目前到底是个什么水准，和美国的差距又有多大呢？
关于这些问题，被称之为国产芯片之父的中国工程院院士倪光南近日现身说法，对此进行了一一解答，倪光南声称，我国在芯片设计已经做得非常不错了，总的来说，设计水平可以达到全球第二，仅次于美国，而在规模方面，中国目前拥有着全世界最多的芯片设计公司。-国产光刻机最新消息
并且这些公司已经拿出了不少优秀产品，并被应用到了国产超级计算机当中，当初连续几年蝉联世界第一宝座的“神威·太湖之光”所搭载的中央处理器芯片，正是国产优质芯片的典型代表，同时，民用领域，诸如云服务器，个人电脑，手机等设备也搭载了很多达到国际先进水平的国产CPU芯片。-国产光刻机最新消息
当然，瑕不掩瑜，在许多关键领域，我国和以美国代表的发达国家之间还存在着较大差距，销售规模占全球比重还不到百分之五，在这个领域当中，占有领军地位的企业大多数仍旧来自于美国以及日本等传统科技强国，因为最大的差距，不在于设计，而是制造工艺水平。-国产光刻机最新消息
中国芯片制造厂80%的200多种关键生产装备都需要从国外进口，因为我们自己造不出来合格的机器，不仅技术难度高，还非常贵，难以将半导体材料产业总体规模扩大，同时，制造芯片必备的材料，目前也存在着大量依赖进口的情况，比如光刻胶就完全依靠进口。-国产光刻机最新消息
除了硬件之外，软件方面也亟待弥补，虽然我们的芯片设计水准达到了世界第二，但设计芯片的计算机软件却需要从美国公司那里购买授权，这和我们在航空领域面临的瓶颈有着相同的道理，是需要两头同时抓的关键。
倪光南指出，由于中国缺乏集成电路产业支撑，导致追赶乏力，仍然“缺芯少魂”，尽管有华为海思等优秀代表出现，但总体来看还需要一二十年才可以完全追赶上美国，那么观众朋友们，你们又认为得多少年才能够追上呢？欢迎各位在留言区发表看法，虎哥非常期待和大家一起交流观点！-国产光刻机最新消息
国产光刻机进展到什么程度，为何ASML改口了
这两年，国产芯片“弯道超车”的消息不断传出。然而到了现在，作为国内重点扶持的芯片攻坚单位，中芯国际也才发展到28nm阶段，外界对国产芯片行业并不看好。
光刻机
1、外界对国产芯片行业还是不看好！
台积电的创始人张忠谋就说过，国内应该专注芯片设计，芯片制造交给台积电就行了。张忠谋言外之意就是，国产芯片制造商很难达到台积电的技术水平。更早之前，荷兰的光刻机巨头ASML更是出言不逊，他们说，即使把光刻机的图纸给我国，我们也造不出高端光刻机。-国产光刻机最新消息
ASML首席执行官
2、时隔一年，ASML总裁的语气两次转变
不过， ASML毕竟是一家企业，他们为了自己的经济利益也曾口是心非。芯片规则被修改之后，ASML不能向我国自由出货，业绩增长增加了很多的不确定性。
ASML的首席执行官温·彼得就向美方发出警告，改口说：如果不把光刻机卖给我国，大概短短几年年内我国就会完全掌握这项技术，到时ASML可能会被我国的光刻机企业打败。
最近ASML的首席执行官，又对我国的光刻机发表了新的评论，其态度变化之快让人意外。2022年1月19日，ASML发布了最新的业绩报告，在记者问到如何看待我国的国产光刻机时，ASML的首席执行官这次却说：中国不太可能独立复制出顶尖的光刻技术。ASML首席执行官的话前后为何差别这么大呢？我们看看ASML的业绩报告就可知晓一二。-国产光刻机最新消息
3、ASML继续看衰我们国产光刻机，底气何来？
根据ASML的财报显示，ASML在2021年收获的订单高达262亿欧元，同比增长超过200%，ASML一年的收入也达到186亿欧元。其中了EUV高端光刻机就卖出了42台，每台售价超过人民币10亿元。
从ASML发布的业绩报告可以看出，失去我国市场，ASML的光刻机依然供不应求，他们的业绩丝毫不受影响。所以ASML首席执行官这次要表达的意思非常明确，ASML才是光刻机的王者，研发高端光刻机很难！我们的国内企业，就不要自己搞研发了，还是等到ASML能够自由出货之时，再向他们购买吧。-国产光刻机最新消息
ASML首席执行官的话虽然很难听，但他说出了一个很现实的问题，我国想要在短期内实现高端光刻机的突破，并不容易。一台高端光刻机的零部件将近十万个零，需要依靠全球5000多家顶尖供应商的共同协力，我国想要凭借一己之力完成全部零部件生产，确实很并不现实。-国产光刻机最新消息
4、杨振宁的建议没错！
国产芯片面临今天这种尴尬的情况，有外部的原因，其实内部的原因更值得深思。早在1965年，我国就已经研制出第一款国产光刻机，并且达到了国际顶尖水平，比现在的ASML还要更早19年，但是我国对光刻机的研发并没有更进一步。-国产光刻机最新消息
在上个世纪七八十年代，国内的所有人都把注意力集中在了正负电子对撞机的研究方面。而杨振宁先生就曾指出，以当时我国的国情来看，对撞机这类高能物理，就是一个烧钱的无底洞，就算取得成果，至少几十年内也用不上。-国产光刻机最新消息
当时计算机和信息产业正蓬勃兴起，杨振宁建议国内应该加大在半导体方面的投入，芯片的未来一定会有市场，所以发展芯片基础才是重中之重。
但是，杨振宁的建议并没有得到重视。原因也不难理解，因为当时还没有芯片限制，国内的许多企业都奉行“造不如买“的错误思想，才有了如今的芯片制造之困。
5、任正非：和平是打出来的！
高端光刻机的研发难度确实很大，但是外部的形势已经不允许我们再等待！既然我们在1965年都可以研发出第一台光刻机，以我国现在的实力和决心，在不久的将来，相信国产高端光刻机一定会实现突破。正如任正非所说：和平是打出来的。我们要艰苦奋斗，英勇牺牲，打造出一个未来30年的和平环境，让任何人都不敢再欺负我们。-国产光刻机最新消息
核心已攻，国产EUV光刻机即将来到，ASML还能活多久
核心技术是一定会攻破的，5000年的中华文明，没有什么能够难住勤劳勇敢的中国人民。世界发展到今天，本是一个合作共赢的世界，每个国家做好自己专业的事，你中有我，我中有你，最终世界大同。可偏偏美帝不这样想，封锁我们，逼着我们把所有的体系全部完善起来，补齐所有的短板。说真的这是一个危机，但同时他更多的是一种机遇。我们没做芯片是我们把美国想得太好了，没有其他原因。中国就想和世界各国合作，现在好了，逼上梁山，我们把芯片做起来了，全是界的芯片又该是白菜价了。ASML将受到重大的打击，最终结果是面临着破产。-国产光刻机最新消息
如果他选择同我们合作共赢，未来会更加强大，就看他如何选择了。
上海微电子的28nm光刻机现在到底怎么样了
目前外面流出来的消息不太多，不过上海微电子作为一家公司，如果研发成功一定会官宣，现在没消息只能说至少还没有到官宣的阶段。
据说去年评审没通过，内情不知，一台DUV光刻机也是非常复杂的，很多东西不是有了理论和设计就能解决的，里面有太多经验值，这个只能靠时间积累，没有捷径！
希望尽快能有好消息，也有可能正在试车中，不过还有问题，没有达到商用状态，总之，希望在不久将来能看到上海微电子DUV光刻机面世！
中国高端光刻机技术现在如何
光刻机技术，荷兰ASML公司是目前全球最先进的企业 ，其提供的光刻机技术已经达到7nm水平，目前国内有关光刻机技术还处于90nm工艺水平，要达到28nm工艺水平，也需要借助国外光刻机实现。目前中芯国际，华虹集团已经实现28nm光刻机量产，14nm工艺研发也已完成，他们在国内的年销售额位居第一和第二。-国产光刻机最新消息
那么中国光刻机技术和国外的差距水平到底有多大？根据中科院院士刘明的说法，目前国内光刻技术与国外差距大约15~20年，刘明院士坦言，目前光刻技术是整个集成电路中我们与国外差距最大的。 目前荷兰一台机七nm光刻机，价值1亿多美元，而且是全球唯一供货商，目前被终止交货的这台光刻机，按照计划将于年底交付，价值1.2亿美元，近9亿人民币，是目前世界上最先进的，不仅中国，韩国，日本和美国等先进国家也要从荷兰进口，这部光刻机关键零件，来自美国，德国，瑞典，法国，这些全球顶级零配件，全都禁止出口中国，所以ASML公司自信地说，“即便给你全套的图纸，你也造不出来”。-国产光刻机最新消息
即使中芯国际拥有一台7nmmASML光刻机，也有很多使用限制，不能自主CPU代工，也不能给龙芯，申威，等自主CPU代工或者商业化量产，在很大程度上，影响了自主技术的发展，如果失去先进光刻机技术，中芯国际就无法进军国际高端市场。中国在许多科技领域，都曾经被外国人卡脖子，但是中国人民有志气有能力，经过广大科技工作者的不懈努力，一步步攻关，终究克服了困难，赶超世界先进水平，甚至实现弯道超车，如中国的高铁技术，5G技术，就是在压力下取得的成果，有压力才有动力 ，中国科学家有能力，克服困难，研制出自己的光刻机。-国产光刻机最新消息
中科院光电技术研究所研究员胡松，在接受记者采访时说，“如果国外禁运，我们也不用怕，因为我们这个技术再走下去，我们认为可以有保证。在芯片未来发展，下一代光机电集成芯片，或者我们说的广义芯片，有可能弯道超车，走在前面”。值得一提的是，中国科技人员研制成功了九nm光刻实验样机，是一种功能非常强大的光刻机，是一种没有参考任何西方技术新思路，新方法，其光刻技术与目前的主流光刻技术不同，波长更长，成本更低，在这方面，如果发展顺利，很有可能实现弯道超车，不但技术领先，而且可以大幅降低光刻机成本。-国产光刻机最新消息
面对中国的崛起，西方大国，怕得要死，恨得要命，千方百计阻碍中国发展的脚步，用禁运和封锁卡中国的脖子，但是他们的阴谋不会得逞，正如伟人所说的一句话：“封锁吧！封锁它十年，八年，中国的一切问题都解决了”！-国产光刻机最新消息
蓝色的忧伤
国产高分辨力光刻机验收合格，是否说明国产CPU的春天到了呢
当然不是了，只能说万里长征成功的迈出第一步了，虽然离国产CPU的春天还远，但却很有意义，毕竟有了扎实的第一步，才会有以后的成功。
先来看看这款光刻机的一些信息。据网上介绍，中科院光电所超分辨光刻装备项目组经过近7年艰苦攻关，突破了多项关键技术，完成国际上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备研制，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米，未来通过多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。但实际上，目前想实现芯片彻底国产化，暂时还不行。-国产光刻机最新消息
但总得来说，这是好事情，也值得高兴，但是不要盲目乐观，更不在狂妄自大，更更不能闭关锁国。目前网上有一些网友，就是喜欢猛吹一款产品，一个技术，或者是一个品牌，至于他们的目的是什么样的，真搞不清楚，但却超喜欢使用捧杀这种做法。动不动就是国外看到震惊了，XX技术远超国外了，要不就是国外看到吓死了等等。-国产光刻机最新消息
在这种言论的误导之下，使很多普通网友看到后，还真以为国产变得很强了，其实这全是在有意的误导。尤其现在，有些所谓的网友，为了自己的利益，动不动就号召封杀这个品牌，明天封杀那个技术。
我的观点，就是国产高分辨力光刻机验收合格，并不能说明国产CPU的春天到了。虽然技术有所突破，但更需要脚踏实地做事，不盲目乐观，也不妄自菲薄，不能一个劲的捧杀国产，更不能一个劲的唱衰国产。记得去年，国产内存条，就火爆过一段时间，当时就有人说，内存条要白菜价了。但现实却说明了一切，到现在，内存条依旧不便宜，更不要白菜价了。所以国产芯片依旧任重道远。-国产光刻机最新消息
祝各位读者生活愉快，有什么问题评论或者私信联系我，喜欢我的回答请关注我，谢谢！
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