中国光刻机最新消息（中国最新研发的22nm光刻机和asml的光刻机有什么区别）

本文目录

• 中国最新研发的22nm光刻机和asml的光刻机有什么区别
• 中国研制出世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机，在世界上属于什么水平
• 中国“量子芯”大突破！造出3nm芯片刻蚀机，中微到底有多强
• 中国半导体光刻设备研究达到了什么水平
• 中国光刻机明年可以达到世界较为先进的水平，开始迈入芯片强国吗
• 仅剩6个月的时间，国产光刻机能否兑现当初的承诺
• 如果中国做出成熟的光刻机，欧美国家会有什么反应
• 中国目前光刻机处于怎样的水平
• 中国28mm光刻机明年如交付，会对世界电子产品格局有什么影响
• 造出ASML那种光刻机，我们中国需要多久，需要做什么

中国最新研发的22nm光刻机和asml的光刻机有什么区别

先正面做答：主要还是因为定位上有根本性的不同。

先摘录新闻里面的一句原话，这个就当做是前言了：

想理解这个问题，首先要改变一下自己心目中对“芯片”这个概念的定义。

一般人对芯片的理解，可能也就局限于电脑cpu、手机芯片，例如intel 8700、骁龙835之类的东西，可是实际上，随着网络的发展，芯片的概念在不断的扩大，凡是拥有运算能力或者集成规模电路的东西，其实都可以被称为“芯片”。例如计算器里面的计算核心（一般被称为单片机）、变压器芯片（如XL1530）等等，其实都是芯片的一种。-中国光刻机最新消息

上图就是封装之后的XL1530芯片，它也是芯片，但是跟一般人认识中的CPU之类的东西差别很大。

然后，我们来了解一下光刻机，以及光刻机之间的差别。

顾名思义，它是用“光”来“刻”一个图像的机器，“光刻”指的是在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上，从而将器件或电路结构临时“复制“到硅片上的过程。

其原理有些复杂，但是我们可以简单的理解为“光刻机就如同一个极其精密的画笔”，是一个能把非常复杂的精密电路画在非常非常小的硅片上的“画笔”。

如同毛笔、钢笔、铅笔、圆珠笔都是笔，但是存在差异一样，光刻机由于其光源的不同，也存在差异。

不同波长的光源，只能用来加工不同的材料。

有了上述基础认识，现在让我们再通过新闻中的一句话，来了解一下我国这台光刻机，和生产cpu所使用的ASML的光刻机有什么区别：

这段话出自我国“超分辨光刻装备研制”项目副总设计师胡松之口，可见我国光刻机所使用的光源和EUV光刻机的光源完全就不一样。

其中有两个原因：

一方面受限于成本；胡松设计师说的很清楚，我国光刻机整机价格才百万元到千万元级别。相比EUV光刻机来说，一个光源就能买我国这个光刻机好几台了。

另一方面，受限于我国实际的科研需求。我国光刻机的主要目的，还是为了解决高端探测器、传感器之类的需求，是为了推进相关领域科研及高精尖技术的继续进步，原本也就没准备解决民用芯片问题。

所以，如果看到了这里，相信大家也就能理解了，我国的光刻机和EUV光刻机之类的东西，定位不一样，光源也不同，就如同毛笔和圆珠笔，同样是笔，但是各有所长。

另外，给大家免费奉送一个小知识，也算是为我自己辩解一下：

2017年，我国中科院已经研制成功了世界上“最亮的极紫外光源”，并且可以应用在光刻领域。如今再配合上精度达到22纳米的光刻机技术，两相融合之下，其实制造高精度的CPU应该已经不远了。

下面引用当时新闻报道中中科院副院长王恩哥的原话：

注意到最后一句我加粗的部分没有？

“将大大促进中国在光刻等多个重要领域研究水平的提升”。

光源和高精度光刻机技术都已完备，你还怕我国制造不出来同级别cpu这样的东西？

我觉得应该在不远的将来就能实现，即使追不上世界一流，最起码也得是中高端吧？

之前有人在提问“如何看待我国光刻机研制成功”的问题下面，我说这标志着我国在芯片领域不再被扼住咽喉，当时先后有多位网友指责我外行，但是我真的觉得我虽然不专业，但也不至于真就这么外行。

以我今天列举出来的这些东西，我真的觉得我国即将在芯片领域崛起，不服来辩，评论区等你。

别的不说，这个事情，我为祖国感到骄傲。

中国研制出世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机，在世界上属于什么水平

魂舞大漠注意到了11月29日的消息，一内行有这样的评述，实事上，又一颗大白菜又被兔子给拱了。呵呵，我们高兴。有一门外汉却说了，这个只是实验品，用于芯片厂的我们有吗？还没有高精度镜头，也没有高精度对准技术，精度只是阿斯麦的十万分之一，可是我们看到，中芯国际订购的7纳米级EUV明年就到货了呢，噫，向来依据“瓦纳森协定”，这种光刻机可是对我严格禁止出口的，这又是怎么回事？美国挥动制裁大棒，制裁中兴，不过眼巴前发生的事呀，让我们通过实事，来戳穿一些谎言，一观实事真相如何？先来理清这位门外汉的迷雾，他说的这些，对我们来说都有了，技术上在国际上领了先，且领先不是一星半点，只是他根本不懂，人云亦云罢了。仅光电所在国际上申请的专利就有4项，其它4项已被人申请。通过研发，所可喜的是，人才队伍已是兵强马壮，技术上拨开了迷雾，已来到了一个大的突破期。光电所的精英们说了，可以保证，下一步就是弯道超车的问题。好了，下面就让我们来做番梳理。-中国光刻机最新消息

▲名字之下。藏多少猫腻，英文不好，不关注科技者，不知ASML在我们这就叫阿斯麦，而艾司摩尔正是台湾的叫法，其台积电占有5%的股权。韩国三星3%，英特尔有15%，荷兰这家公司，不过，大国协作的产物，什么美国的光源，德国蔡司镜头等等，他们都是该公司的股东，因此成就了ASML的名头。由于很多技术突破了物理的极限，使用的名词，不为寻常百姓所熟知，突破了极限，要的是精度，芯片体积才可以造的越来越小呀。中国每突破一极限，美国为代表的西方国家，即开始对中国出口相关产品，成为规律，谁不挣钱都着急，2015年刚说要将65纳的设备给我们，今年阿斯麦就宣布，7纳的光刻机对中国一视同仁，嘻嘻，谢谢您的仁慈，谁都能听出来，中国没有的话，实事上根本不可能，不少喷子纳闷极了，我们的进步，有这么快？是的，由不得你眨下眼睛。国际上现在最先进的芯片也就是这个水平了，中兴还是回国创业吧。-中国光刻机最新消息

▲新闻背后。光刻机是集成电路产业的一颗最璀璨的明珠，闪烁着高难问的光辉，如同航空产业的发动机一样，由于技术门槛非常之高，一般人拱不动的，日本由于收购德国亚深，掌握了深紫外光源技术和物镜技术，其尼康和佳能也能做22纳的水平，这些年还是发了些财的，所以每谈及日本芯片，总有人投去羡慕的目光。我们收不动，大约也只能自家研发，透过新闻报道，我们可以看到，我们走了一条不同的路，取得了更高的精度，有称世界首台用紫外光源实现22纳的EUV，采取多次曝光技术可以实现10纳，我们不吹，10纳以下是一个级别，所以7纳亦可有望实现之。至少打破了禁运规则，他们再想赚钱，不得不重新审定，只是手里还有吗？由此看来，人家比咱们有些人要明白，能赚则赚，这回中国先，要来几台？所以新闻说，可以达到一致的水平。年初要制裁，年底被打脸，这一掌掴出了深紫之血。-中国光刻机最新消息

▲中国光刻。我们使用的光源，为固态深紫外，不同于阿斯麦的离子束，我们的优点比较细，可使设备小巧得多，成本还低。二看物镜的镜片，荷兰使用的是磁流变和离子束，辅之以手工，加工慢，人工成本自然就高，我们则实现了全自动。此二者都是日本根本不可能完成的。以现在的技术，产业以后，以其寿命长，产率高，可以白菜价占领14纳的市场。致于极紫外的，现在都在努力，据说0.1纳的镜片，我们已攻克，上面镀的一层原子膜，中国说是第二，无人敢讲第一。据悉日本不敌已败走，阿斯麦为此正在吭哧憋肚。年初中芯花钱买来的7纳EUV，每台1.2亿美刀，我们的量产后，不过千万级。请记住，2018年11月29日，这一天是有重大意义的，魂舞大漠去各大网站走了一遭，看到网友们无不为咱们取得的成就欢欣鼓舞。-中国光刻机最新消息

中国“量子芯”大突破！造出3nm芯片刻蚀机，中微到底有多强

我国企业中微成功研制出3nm的刻蚀机，且相关技术已经进入了可以量产应用的阶段，中国芯片有了重大突破，但这也更深刻地揭示出中国面临的、不公正的光刻机之痛。

与名声在外的光刻机相比，刻蚀机的名字确实相对低调，但这并不意味着刻蚀机不重要，只是因为中国已经拥有了先进的刻蚀机技术而已。客观来说，刻蚀机是与光刻机相提并论的重要芯片加工机器，两者的地位等同，在纳米芯片大规模生产的规程中缺一不可。中微在刻蚀机领域的不断研发、不断开创，成功研发3nm刻蚀机确实是一件令人惊喜的好消息，真是振奋人心、振奋士气。-中国光刻机最新消息

同样具有极高技术水平的刻蚀机设备

先来简要地介绍一下刻蚀机。

芯片加工大致可以分为两个粗略的环节，一是把芯片工作所需要的芯片架构刻上去，二是要把可能会干扰芯片工作的无用内容消除掉。完成第一个工作的设备就是大名鼎鼎的光刻机，目前世界上最顶尖的光刻机企业来自荷兰，而该企业的科技其实是杂交而来的（即融合了多个国家的多个技术）；完成第二个工作的设备就是今天提到的刻蚀机，中国企业在刻蚀机领域一直处于顶尖水平，曾多次突破美国的技术封锁，如今更是再创新高。-中国光刻机最新消息

中国刻蚀机成功追超世界顶尖水平，而光刻机依旧被美国卡住了脖子，这种悲剧更深刻地揭示出中国面临的、不公正的、光刻机之痛。什么样的痛苦？那就是在某些时刻、在某些领域，中国必须依靠自己的力量、依靠14亿人的拼搏，追逐、赶上其他60亿人的工作。-中国光刻机最新消息

为什么这么说？这就要从刻蚀机与光刻机的异同说起。很多人都以为刻蚀机的技术要比光刻机简单，但其实并不是这么一回事：光刻机和刻蚀机在技术难度上处于同一水平，只是在技术种类的多与少上有很大的差异，光刻机所需的技术种类要比刻蚀机更多。-中国光刻机最新消息

光刻机需要什么？它需要工作台、光矫正器、形状设计装置、能量控制装置、能量探测装置，nm级的掩膜设备，高精尖的复杂物镜等多个顶尖的技术设备，涉及到的顶级技术非常多，目前没有任何一个国家可以单独拿出所有的技术。注意，不只是中国，没有国家在以上所有的光刻机技术领域都处于顶级水平，大家都只是拥有其中的一部分，最后通过不同企业的合作来生产顶级光刻机。-中国光刻机最新消息

相比之下，刻蚀机主要依靠基于感应耦合的等离子体刻蚀技术，主要的技术是高精尖的控制系统、各种射频单元、顶级的光谱测量技术、阻抗监控以及探测技术、压力控制以及质量控制器，它所需的顶级技术在数量上相对较少。因此，中国在经过努力之后，成功追赶上了世界顶级的水平。-中国光刻机最新消息

刻蚀机和光刻机的对比清楚地告诉我们：不是中国人不努力，不是中国人不聪明，而是中国人需要做的事情太多了。光刻机的技术不是美国单独研发的，而是美国以及众多国家共同研发出来的，中国要追赶的也不是单单一个美国，而是世界上研发光刻机的所有国家，这注定是一个复杂而又艰巨的工作。-中国光刻机最新消息

中国从不否认自身的不足，也不畏惧竞争者的强大，但中国的光刻机研发者们真的需要时间。

祝愿国产光刻机早日像刻蚀机那样蓬勃发展、一飞冲天。

中国半导体光刻设备研究达到了什么水平

晶圆工厂生产芯片，必须将掩膜版上的电路图形转移到硅晶圆片上，这就必然要用到先进的前道光刻机。也可以说，光刻在半导体芯片的制造工艺中，是最为关键的工艺环节。一般地，光刻的水平是高是低，会直接决定芯片的制程工艺和性能是优是差。晶圆工厂在生产芯片的过程中，需要利用光刻机进行20到30次的光刻，所耗用的时间在生产环节中占到一半左右，在芯片的生产成本中占比更是高达三分之一左右。 -中国光刻机最新消息

要论中国的光刻机设备在技术上达到了什么样的水平？那就得看国内第一大光刻机制造商上海微电子的光刻设备是怎么个情况了。

2002年，上海微电子在上海成立，一直致力于研发并制造半导体设备、泛半导体设备和高端的智能设备，目前的产品已经覆盖芯片前道光刻机、芯片后道封装光刻机、面板前道光刻机、面板后道封装光刻机、检测设备和搬运设备等。上海微电子承接了国家规划的（重大）科技专项，以及02专项“浸没光刻机关键技术的预研项目”（通过了国家验收）和“90nm光刻机样机的研制”（通过了02专项专家组现场测试）任务。 -中国光刻机最新消息

▲上海微电子的光刻机。

▲荷兰ASML的光刻机，单台价值达1亿美金左右。

上海微电子的芯片前道光刻机已经实现了90nm制程，虽然这比起荷兰ASML最先进的EUV极紫外光刻机仍有很大的差距。据业界传言，上海微电子也已经在对65nm制程的前道光刻设备进行研制（目前正在进行整机考核）。光刻机技术到了90nm是一个很关键的台阶，设备制造商一旦迈过90nm的台阶，后面就很容易研制出65nm的光刻设备，之后再对65nm的设备进行升级，就可以研制出45nm的光刻机。业者预估，上海微电子的光刻机设备有望在未来几年内达到45nm的水平。-中国光刻机最新消息

上海微电子的封装光刻机在市场上的占有率就相当的高了，尤其在国内的市场上。上海微电子的后道封装光刻机已经可以满足各类先进的封装工艺，且具备向客户批量供货的能力，还出口到了国外。上海微电子的芯片后道封装光刻机在国内的市占率有80%，在全球的市占率达40%。另外，上海微电子研制并用于LED制造的投影光刻机，在市场上的占有率为20%。 -中国光刻机最新消息

最后，我觉得有必要补充一则消息，这也是我最近几天在网络上看到的（尚无法考证该消息的真实性）。该消息有这样一段文字：“2016年底，华中科技大学国家光电实验室利用双光束在光刻胶上完成了9nm线宽、双线间距低至约50nm的超分辨光刻 。未来如果将这一技术工程化应用到光刻机上，我国就可以突破国外的专利壁垒，直接达到EUV极紫外光刻机的加工水平。”-中国光刻机最新消息

中国光刻机明年可以达到世界较为先进的水平，开始迈入芯片强国吗

光刻机是一种十分特殊的大型设备，在这个领域，属于荷兰的ASML一家独大，日本的尼康、佳能虽然价格便宜，但是远逊ASML ，而我国，在很早之前就开始研发光刻机，也已经推出了比较成熟的产品，但是一般用于粗放型的半导体产业上面，跟尼康、佳能比还有差距，跟ASML的差距，更是短期内无法弥补的。-中国光刻机最新消息

而芯片产业呢，更是我们现在大力发展的产业，原因也没有别的，因为它太重要了，基本上大部分的电子产品、汽车上面都要用到各种芯片，而我国现在80%以上的芯片都要进口，每年我们大概要花三千亿美元进口芯片，是进口贸易中最大的一单，比石油进口的金额还要大。特别是高端芯片，基本全部依靠进口。之前中兴事件闹得很凶，就是美国在卡我们芯片。实际上，如果外国如果要在芯片上卡住我们，我们短期内还真没有办法。我们现在的优势是市场巨大，需求巨大，外国企业即便有政府压力，也不敢轻易放弃我们这么巨大的市场。要制造，研发制造芯片都是很费钱的，如果市场萎靡，那么芯片企业很有可能就要亏损，我国的芯片市场如果被屏蔽，那么全世界的芯片企业恐怕日子都会很难过。-中国光刻机最新消息

虽然由于市场的原因，一般的企业不会不出口芯片给我们，但是如此巨大的一块市场，一直把控在外国人手里，始终不是长久之计，因此我们现在大力发展芯片产业。

但是，芯片产业要想全面发展，真的是很困难的，这不是一件简单砸钱就能完成的事，需要大量的研发技术，众多产业链的配合，还要大量的时间积累，绝不是一朝一夕的事情。就拿芯片制造这事来说吧，抛开封装，单单就说在晶元上制造出我们想要的芯片，就需要五个步骤，分别是photo、etch、thin film、diff、c&c，汉语来说就是光刻、刻蚀、薄膜、扩散、清洗五个大步骤，而且这五个步骤不是说一遍就完事，每个步骤里又细分好多小步骤，每个步骤都会还会有不断的反复。从第一步开始，到最后一步结束，外行人看到的是一个亮闪闪的晶元硅片进去，又一个亮闪闪的晶元硅片出来，实际上，这个晶元硅片已经在各种机器里面进行了各种复杂的物理化学反应，集成了无数的电子元件，这样小小一片硅片才拥有了记忆存储信息，运行指令的功能。这才有了我们用的手机电脑，实现各种功能。这个过程有多复杂，大家可以想象一下。-中国光刻机最新消息

芯片制造工艺是十分重要的一环，这个环节要比设计还要难，因为需要配合的东西太多了。首先说上面五个步骤就需要大量的设备，大型光刻机，ASML的设备这个近几年大家经常听到过，除此之外，还有很多有名的半导体设备公司，比如应用材料、日立、东京电子、LAM等等，提供其他设备，虽然不像ASML光刻机那样动辄就几亿一台，但是几千万一台是很常见的。别的不说，就说自动化生产运输晶元到不同机台的小车，一台就可以买一辆宝马车。硬件是一方面，软件也是另一方面，现在都是自动化生产，需要大量的软件对整个生产过程进行控制，那些软件都是十分昂贵的，有的一个系统就要几亿。设备搭配好了，一个个都那么昂贵，那么原材料也一定要净度超高的才可行，除了晶元之外，还有大量在生产制造过程中用到的气体液体，而这些，一般都是由日本公司提供的。三星已经是芯片领域的佼佼者了，日本说要停止对他们的原材料供应，立马就抓瞎了，可以看出来，原材料也是十分重要的。-中国光刻机最新消息

现在，我们做的比较厉害的，应该是华为的手机芯片设计这一块，但是在生产制造，原材料，设备等各个方面，跟几个芯片强国差距还是蛮大的。抛开设备公司不谈，就说芯片这一块，美国有英特尔、高通，韩国有三星、海力士，而我们大陆这边最强的也就是中芯国际，但是跟这些企业比还是差距蛮大的。如果放眼整个国家，台积电的芯片制造技术是首屈一指的，是可以跟三星、英特尔并驾齐驱的存在，虽然它只是个代工厂，但是芯片行业的代工厂不是其他行业的代工厂，代工的制造技术绝对也是领先的。如果什么时候大陆能够有一家跟台积电比肩的芯片企业，那么那个时候我们就可以称作是芯片强国了。-中国光刻机最新消息

而如果说要实现半导体行业全面的强大，那么我们要在芯片设计、制造还有半导体设备和原材料方面的全面发展，形成完整产业链，这样才会彻底摆脱芯片受制于人的局面。要实现这些，任重而道远啊。

仅剩6个月的时间，国产光刻机能否兑现当初的承诺

当时说说算了，就象喊“万岁”一样，谁能活一万岁呀！别较真。再给六年时间。

如果中国做出成熟的光刻机，欧美国家会有什么反应

如果中国人能造出自己的光刻机，那欧美国家会哭晕在厕所，因为西方的光刻机如荷兰的光刻机生产商，都是集合西方所有高端产品的组装机，没有一个能独立完全造出的，既然中国能做出来，那么中国各个领域的制造能力也达到全西方有关产品的水平，这对欧美方而言是很可怕的，以后所有芯片都有可能白菜价了，还有的是中国自己能造的芯片还要进口吗？-中国光刻机最新消息

中国目前光刻机处于怎样的水平

对于光刻机来说，目前世界的老大是荷兰的ASML，而且基本处于垄断地位，高端市场只此一家，于是很大人就想当然的认为，光刻机技术含量太高，别人做不了，只有ASML能做，这种说法有一定的道理，但并非其他国家就做不了，主要没人去做高端市场还是因为没有市场的问题限制了！-中国光刻机最新消息

ASML起源于荷兰菲利浦，这公司是家电大企业，曾经一条龙做终端产品、芯片、光刻机，一个完整的产业链。后来慢慢分工，结果芯片做没落了，光刻机却做到了巅峰。光刻机给人的映象就是一台上亿美元，这个看起来很牛，利润空间也很大。如此高利润，为何只有ASML一家独大，其他生产光刻机的企业包括佳能、尼康，中国的上海微电子等，怎么这些就只能涉及低端产业，就没能做出成绩来呢？-中国光刻机最新消息

其实光刻机这个行业相当的苦，全世界做芯片的也就几十家企业，高端的也就那么几家，光刻机一年的市场也就几十亿美元，客户少，稍不留神没有接到订单或者客户被竞争企业抢走了，面临的很可能就是巨额亏损！ASML能够保持今天的垄断地位，主要还是这家公司采用了一种全新的商业模式，与客户进行了捆绑，英特尔、三星、台积电等都是这家公司的大股东，然后他们当然就买自家的产品了，于是像佳能、尼康等企业一看，高端市场已经没有任何市场了，做出来又卖给谁呢？也就只能放弃了，所以大家都完全放弃了高端光刻机市场，只做中底端。-中国光刻机最新消息

所以说，光刻机问题是别人技术上做不了吗？未必，是对手没法做，市场已经被人垄断了，做了卖不出去，做了也白做！

但是今天中国面临一个严峻的问题，我们芯片被美国卡了脖子，我国也没有几家芯片封装企业，一下子搞得中兴连芯片都没有了，还闹了一段时间恐慌，虽然之后这样的的限制在我国企业付出很大代价后解除了，但发展自己的芯片产业成为一种必然，尤其是高端芯片！但如果有一天ASML不卖光刻机了呢？-中国光刻机最新消息

一方面我们有自己的光刻机企业，但走的也是低端路线，实力不强，因为我国芯片本来就是大量进口，而现在我国企业和政府都大量的砸钱，希望在近些年尽快将芯片追上来，能够满足自给自足！而已中国的眼光，尤其是华为，他们不会看不到未来光刻机被卡脖子的一天？我相信这一天一定会来，因此我国恐怕现在已经开始砸钱，在发展芯片的同时，也希望用钱将光刻机一并砸出来，这是很有可能的。-中国光刻机最新消息

光刻机的壁垒更多的其实不是技术，而是市场的需求，是商业模式的垄断，一旦舍得投入，我相信光刻机也不是难事！就像看20年我国所有的领域都落后，但今天一看，真要去做，基本都成了，甚至比西方做得更好，相信光刻机也是一样！-中国光刻机最新消息

中国28mm光刻机明年如交付，会对世界电子产品格局有什么影响

现在电子产品的芯片制程已经达到了10纳米，7纳米正在向着5纳米和3纳米制程工艺进发。目前世界电子产品界对极紫外EUV光刻机需求较大，而对深紫外DUV光刻机的需求没那么大。说句不好听的话28纳米工艺制程已经落后了，因为它是2011年时的技术，距今已经过去了9年。即便是上海微电子将于2021年交付制程为28纳米的光刻机，那对制程工艺要求苛刻的电子产品来说影响也不大。-中国光刻机最新消息

因为芯片的制程工艺越小，就意味着其功耗越低，性能越强，散热能力越强。就拿高通骁龙855和845处理器来说，高通骁龙855处理器采用的是7纳米制程工艺，而高通骁龙845采用的是10纳米制程工艺，但是855处理器的性能要比845强了45%，图形处理上强了20%。除了设计带来的性能提升外，其他就全靠制程工艺了。所以说，电子产品对制程工艺的追求是无止境的，越低越好。-中国光刻机最新消息

或许，国产28纳米制程的光刻机对电子产品没有影响，但是对于其他对制程工艺要求不高的行业影响还是挺大的。如:国防工业，运营商基站芯片，工业芯片，超级计算机。只要有了28纳米制程工艺的光刻机，那么国内以上这些行业所需要的芯片就不会受制于人，完全可以实现独立自主。当然除了实现独立自主之外，还可以将以上行业芯片的性能提高一个级别。由此可知，量产28纳米制程工艺的芯片，对国内的制造业，国防工业有着重大的意义。虽说在商业应用上被国外卡脖子，但是涉及到重要的国防工业，重工业可以做到独立自主已经不错了。-中国光刻机最新消息

在国外制裁的今天，国产28纳米制程工艺的DUV光刻机的部件全部是国产的。其重要的镜头组来自于国望光学，掩膜台应该来自国内哪个企业还不清楚，不过清华大学在2014年就制造出了工件台样机，并且指标实测达到MA2.2纳米，MSD4.5纳米，我国也是世界上第二个，掌握该技术的国家。在7年之后的2021年，国产工件台的精度在上一个台阶也没有大问题。说到DUV光源技术，我国称第二，没有哪个国家敢称第一。毕竟KBBF晶体的技术领先国际1-2代，制造出合适的光源也不存在难题。在光刻机三大重要部件都突破后，制造出28纳米制程工艺的光刻机也就顺理成章了，可以说，在11纳米制程工艺之前的技术，国内都不会被卡脖子了。-中国光刻机最新消息

要知道，米国可以为了一己之利，全力制裁一个企业，这就让世界各国看清楚了米国的面具下藏的真实意图。我国在28纳米制程光刻机突破后，完全可以对外出售到那些害怕被制裁的国家，以打出光刻机出口的一个突破口。趁着全球各主要强国在产业上去美国化的进程，加紧研发更先进的光刻机，以实现对外出口。总体而言，国产28纳米制程工艺的光刻机，对现有的电子产品领域造不成什么影响，但是对于国内相关企业的意义是十分重大的。-中国光刻机最新消息

造出ASML那种光刻机，我们中国需要多久，需要做什么

题主所指ASML光刻机、应该是指制程在7nm以下芯片ASML的EUV光刻机。

这种光刻机、是制程高端芯片的核心设备，由几万个零部件组成，集聚了许多高科技顶尖技术。有人形容光刻机是“半导体工业皇冠上的明珠”。而当前5G移动终端中的关键芯片，只有ASML的EUV光刻机能制程7nm甚至5nm的高端芯片。-中国光刻机最新消息

那我们中国需要多久才能制造出这种高科技水平的光刻机呢？

一、我们的光刻机技术有一定储备，起步不算太晚。但因选择路径方向问题起了个大早、却没能赶上晚集。

我国早在1956年就将半导体技术列为当时国家新技术的紧急措施，比日本还早二年。並在1958年中科院拉出了中国第一根硅单晶，即今天的硅晶圆。1980年，清华大学研制出第四代分布式投影光刻机、精度高达3微米接近国际主流水平，仅次于美国。-中国光刻机最新消息

而到了今天，用中科院微电子所刘明院士的话说：国内的光刻机技术与国外技术差距有15到20年。本来我们可以在光刻机技术上与ASML一争雄长，但我们放弃了。导致现在每年80/%的芯片靠进口，2019年超过了二万亿、出了大钱还要看人脸色。-中国光刻机最新消息

二、中国需多久才能造出媲美ASML的EUV光刻机。

在高端芯片生产上我们并不弱。如北斗三号导航系统芯片、超级计算机、载人航天的嫦娥四号、歼20高性能芯片等等都是国产自主、顶级领先的。这些技术和产品、美国是不可能卖给我们的。

所以，在光刻机制造芯片领域我们不是整体落后、有一定技术储备和设备基础。

科技随着市场走，从商业化考虑的是性能和成本。芯片的投入比是市场价的20/%，不是纯利润的20/%。如高通的40/%利润在中国，没有足够的利润支撑进一步科技投入，光刻机技术进步将放缓、也给我们追赶顶端光刻机技术留下了宝贵时间。-中国光刻机最新消息

美国禁售华为芯片，华为的确受困。但中国产品去美化、我国加大政策扶持力度、增加资金投入和研发光刻机进度，与先进水平的距离就会减小到7到8年。

还有，科学技术日新月异，光刻机研发技术和手段丰富多样化。以前造一架飞机图纸就要几卡车、造两弹一星用手摇计算机要很长时间，现在辅以其它设施一部电脑就够了，技术手段也更加先进和多样化。中国有众多卓越的科研人员、齐全的工业体系、集中力量办大事的传统，在3到5年时间内即可生产出媲美ASML的EUV光刻机。-中国光刻机最新消息

局座张召忠面对媒体说过这样一句话：“三年后美国的芯片卖不出去，满大街都是”。寓意是中国造出顶端光刻机后对美国的芯片会大幅减少依赖。

三、中国现在攻关制造顶级光刻机需要做什么？

具体来说：是政策支持、尊重科学、实事求是、砥砺前行。

1、我国巳出台相关政策，加大了对半导体行业的扶持力度。策略上将实事求是由点到面、由易到难自主地“科学造机”而不是“运动造机”。

2、面向世界招揽人才，如数学、化学和物理、自动化控制软件、精密机械加工、图像识别等等专家，集众才之智得制造顶级光刻机之益。

3、汇聚国内科研力量、加大光刻机研发力度。在极紫外光源控制、透镜精密加工工艺、掩膜材料筛选使用，及光刻胶、CMP抛光液、电子气体等方面我们国产化率还低于20/%，还要进行攻关做到自主产权的产品用到尖端光刻机上面。-中国光刻机最新消息

4、完善制造顶级光刻机零部件生产的产业生态链。由于美国利用《瓦纳森》协议封锁了EUV光刻机制造技术和设施及设备，如仅凭华为一家去闯会困难更重。所以应整合全球顶级设备商的能力，在集中力量攻坚克难、自主研发的基础上，面向世界全方位寻友借力并举来加快研发制造进程。-中国光刻机最新消息

ASML公司曾表示，即使将EUV图纸公开，也没人能造的出来。

但相信中国即使没有EUV图纸，也能造出媲美EUV的光刻机来。因为光刻机是人造出来的，不是神造出来的。